| 项目名称 | 原子层沉积系统 | 项目编号 | XF-WSBX-****** |
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| 公示开始日期 | 2025-07-03 14:59:09 | 公示截止日期 | 2025-07-10 16:00:00 |
| 采购单位 | ******大学 | 付款方式 | 货到付款，甲方在到货验收后15日内向乙方一次性支付本项目的总额 |
| 联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 中标后在我参与的项目中查看 |
| 签约时间要求 | 成交后30个工作日内 | 到货时间要求 | 成交后90个工作日内 |
| 预算 | ￥ 405,000 | ||
| 供应商资质要求 |
符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件
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| 收货地址 | ******大学紫金港校区开物苑3幢负一层地下实验室 | ||
采购清单1
| 采购物品 | 是否允许进口 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
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| 原子层沉积系统 | 否 | 1 | 台 | 电子工业生产设备 |
| 品牌 | 迈纳德 | ||
|---|---|---|---|
| 规格型号 | MNT-S100Oz-L3 | ||
| 预算 | ￥ 405,000 | ||
| 技术参数 | 1 配置及组成 1) 1套热型原子层沉积系统主机 2) 1套4寸反应腔 3) 1套常温液源输送系统 4) 2套加热源管路 5) 1套臭氧源系统 6) 1套真空系统 7) 1套备品备件 2 设备主机规格 1) 适用于4英寸以及小尺寸样品薄膜沉积 2) 设备本底真空优于3 Pa，设备漏率≤ 5×10-10 Pa·m3/s； 3) 控制方式：PLC+触摸屏 4) 多种沉积模式：快速模式、充分暴露模式和多元掺杂模式 3 反应腔系统： 1) 反应腔材质为316L不锈钢，底座整块材料加工，腔体表面抛光后电解； 2) 密封方式：采用燕尾槽密封并配备耐腐蚀密封圈； 3) 样品台尺寸：标准4英寸腔体，直径为100 mm； 4) 样品台加热温度最高可达400℃，采用PID控制方式，控制精度为±1℃； 5) 反应腔配备自动充气及过压保护功能； 4 前驱体源输送系统 1) 常温源1路，加热液源2路； 2) 前驱体输送管路加热温度范围RT-250℃，控制精度±1℃； 3) 常温源：配备三孔ALD阀门、源手动阀、不锈钢源瓶(50 mL)； 4) 加热源：配备三孔ALD阀门、源手动阀、不锈钢源瓶(50 mL)，源瓶温度范围RT-200℃； 5) 管路及接头均采用316 EP级电解抛光不锈钢材料，所有气体管路连接处采用金属VCR密封；载气管路采用N2或者Ar气体，通过MFC控制；配备惰性气体自清洗系统，在控制界面中可以设置自动清洗的次数。 5 臭氧源系统（和水共用1路） 1) 配备臭氧发生器、臭氧破坏器、MFC(量程0-200 sccm)； 2) 臭氧发生器产量可达20 g/h，浓度可达150g/m3； 3) 臭氧发生器采用风冷方式无需配备冷却水，尺寸不大于510*510*210 mm。 6 真空系统： 1) 真空泵采用双级油封式真空泵，抽速不低于14 m3/h； 2) 真空测量：配备进口压力传感器，检测范围：5*10-4-1000mbar； 3) 真空抽气管道可以烘烤至150℃，且真空泵前级配置热阱，温度范围RT-300 oC，控制精度±1℃； 7 控制系统 1） 采用高稳定性的PLC+工业触摸屏方式；触摸屏尺寸不小于15.6英寸； 2） PLC采用工业以太网控制方式，支持灵活扩展DeviceNet、CANopen、PROFIBUS DP等通信方式； 3） 系统可实现配方编辑、保存、读取等功能；ALD阀门及管路具备自动排空和清洗功能； 4） 系统设有高级界面，可进行温度PID参数自整定、前驱体标签修改等； 5） 系统可实时监测动力气体压力值、系统压力值、加热状态、阀门开关状态和镀膜进度，当发生异常时触发报警并做出响应，报警日志可进行回看； 8 验收指标： 厂家须提供氧化铝薄膜的标准工艺配方，前驱体为三甲基铝+水，按以下内容进行现场制备与验收： 薄膜均匀性：在4英寸晶圆上沉积300cycle氧化铝，以晶圆上5个均匀分散点（上、下、左、右、中心5点，边缘5mm除外）进行椭偏仪测试膜厚， 4英寸晶圆上薄膜不均匀性≤1%。 |
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| 售后服务 | 电话支持:7x24小时;质保期:1年;服务时限:报修后2小时;商品承诺:原厂全新未拆封正品; | ||
******大学
2025-07-03 14:59:09
